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多腔体磁控溅射系统

DE5000 多腔体磁控溅射系统是北京德仪天力科技发展有限公司推出的一款面向科研、中试及量产的材料制备设备。

中试-量产 磁控溅射系统

DE700PVD 中试-量产 磁控溅射系统,溅射距离可调,直流、脉冲直流、射频电源、HiPIMS电源。

磁控溅射系统

DE600DL纳米膜层磁控溅射系统是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台,配备多个磁控溅射源,可沉积金属、半导体、介质材料。设备可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选溅射楔形膜等。

磁控溅射系统

DE500DL纳米膜层磁控溅射系统配备多个磁控溅射源,可沉积金属、半导体、介质材料,可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选溅射楔形膜等,是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。

中试-量产 电子束蒸镀机

DE400P 中试-量产 电子束蒸镀机优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性,高精度镀膜速率和膜厚控制。

双电子枪共蒸镀膜系统

DE500CL 双电子枪共蒸镀膜系统,优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性,高真空或超高真空镀膜环境。

多电子枪蒸发镀膜系统

DE600CL 多电子枪蒸发镀膜系统,优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性,高精度镀膜速率和膜厚控制。

超高真空电子束蒸发镀膜系统

DE400DUL 超高真空电子束蒸发镀膜系统,优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性,高精度镀膜速率和膜厚控制。

多腔体电子束蒸镀系统

DE3000ER 多腔体电子束蒸镀系统,PLC+PC全自动控制样品传输和全部工艺流程。

电子束蒸发镀膜系统

DE400DHL 电子束蒸发镀膜系统,优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性,高精度镀膜速率和膜厚控制。

关于我们
北京德仪天力科技发展有限公司成立于2001年,是集薄膜沉积设备研发与制造于一体的创新技术企业。公司核心产品涵盖磁控溅射、电子束蒸镀及热阻蒸发等多种薄膜沉积设备,广泛应用于半导体、微电子、纳米技术、超导、量子科技、数据存储及生物薄膜等前沿领域。依托超高真空环境与高精度工艺等核心技术优势,我们为高校、科研院所及企业客户提供从研发到规模化生产的全流程薄膜沉积解决方案,精准满足多领域、多层次的科研与产业化需求。作为业界优秀的真空薄膜沉积设备供应商,德仪科技自成立以来一直贯彻“高级配置、高档指标、高超性能...
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新闻资讯
技术文章 新闻中心
  • 2026-9

    14

    多腔体电子束蒸镀系统:微纳制造中的界面工程利器

    随着微纳电子学与光电子学的飞速发展,对薄膜材料的质量要求已不再局限于厚度与成分,更延伸至界面的原子级平整度与纯度。多腔体电子束蒸镀系统作为一种先进的物理气相沉积设备,通过构建隔离且互联的真空环境,解决了多层材料制备中的交叉污染难题,成为现代实验室进行复杂界面工程研究的理想平台。这套系统的最大亮点在于其“原位”处理能力。在传统的单腔设备中,若要制备多层不同材料的复合膜,往往需要多次破空更换源材料,这不仅耗时耗力,更会导致底层薄膜表面吸附气体分子或形成氧化层。多腔体电子束蒸镀系统...

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  • 2026-9

    9

    多腔体电子束蒸镀系统:真空环境下的精密镀膜平台

    在微纳加工与薄膜物理的研究领域,材料的表面修饰往往决定了器件的最终性能。多腔体电子束蒸镀系统正是为此类高*需求而设计的精密制造平台。它摒弃了传统的单腔室作业模式,通过模块化的腔体设计与超高真空环境的结合,实现了复杂薄膜结构的生长与多层材料的连续制备,成为连接基础材料研究与工业化应用的重要桥梁。多腔体电子束蒸镀系统的核心在于其独特的多腔体互联架构。不同于常规设备需要在大气环境下破空取样再重新抽真空的繁琐流程,多腔体系统通过真空闸板阀将预处理腔、沉积腔及传输腔有机连接。样品可以在...

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  • 2026-9

    9

    真空电子束蒸发镀膜系统的产品矩阵与选型逻辑

    在国产替代的大背景下,北京德仪天力科技发展有限公司作为国内专业的真空镀膜设备制造商,推出了覆盖研发、中试到量产全场景的DE系列电子束蒸镀系统。公司核心产品涵盖磁控溅射、电子束蒸镀及热阻蒸发等多种薄膜沉积设备,广泛应用于半导体、微电子、纳米技术、超导、量子科技、数据存储及生物薄膜等前沿领域。一、DE400DHL:高真空单源电子束蒸发镀膜系统DE400DHL配置一个多坩埚电子束蒸发源,是DE系列中应用广泛的通用型电子束蒸发镀膜系统。核心特点:高真空蒸镀环境(极限真空度3×10⁻⁸...

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  • 2026-7

    10

    磁控溅射系统DE500DL/DE600DL——研发和中试的“多面手”

    磁控溅射是物理气相沉积(PVD)中应用广泛的技术之一。与蒸镀不同,它通过高能离子轰击靶材,使靶材原子溅射出来沉积在基片上——成膜温度低、附着力强、成分可控性好,特别适合对膜层质量要求高的应用场景。北京德仪天力科技的DE500DL和DE600DL纳米膜层磁控溅射系统,正是为研发和中试量身打造的平台。一、它凭什么能“溅”出好膜?磁控溅射的核心竞争力在于膜层质量——致密度高、附着力强、成分与靶材一致。1、DE500DL和DE600DL在这方面交出了漂亮的答卷:镀膜腔室极限真空度优于...

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  • 2026-7

    2

    如何通过PVD镀膜设备的偏压控制与靶材布局优化提升膜基结合力?

    在pvd镀膜设备镀膜技术中,膜基结合力是衡量涂层性能的核心指标,直接决定产品在极*工况下的耐用性与可靠性。而偏压控制与靶材布局作为两大关键技术,从微观界面结合与宏观工艺适配两个维度,为膜基结合力的提升提供核心支撑,构建起从理论到实践的完整优化体系。1.pvd镀膜设备偏压控制:以离子轰击重构界面结合力偏压控制的本质,是通过电场驱动离子轰击,从微观层面重构膜层与基底的结合机制。在镀膜过程中,对工件施加负偏压,能在工件表面与等离子体间形成强电场鞘层,使金属离子与惰性气体离子获得高能...

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  • 2026-6

    2

    热阻蒸发真空镀膜系统日常维护、易损件更换及故障处理方法

    热阻蒸发真空镀膜系统是光学镀膜、半导体封装、工业装饰件生产领域的核心设备,其运行稳定性直接决定产品良率与生产效率,建立规范的日常维护、易损件更换及故障处理机制,是降低非计划停机风险、保障连续稳定生产的核心举措。热阻蒸发真空镀膜系统日常维护需遵循“预防为主、定期排查”的原则,按不同频次落实对应操作。日常开产前需完成基础检查:确认真空腔室无残留碎屑、异物,冷却水路无泄漏、气压正常,气路接头无松动;开机后观察真空泵运行声音是否平稳、真空度上升速率是否与常规状态一致,无异常声响或速率...

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