Nikon宣布將在2027年1月推出新款曝光校正機Litho Booster 1000，相較現行機型可提高35%測量精度，並使生產效率提高10%；Litho Booster 1000可在進入曝光製程前先行量測整個晶圓表面，並把校正數值傳送到曝光機，藉此實現更高精度的曝光，並鎖定在新一代3D半導體結構對於晶圓對晶圓精密鍵合需求。
為3D製程所開發
Nikon自2018年開始於半導體市場投入曝光校正機，可協助Nikon或其它品牌的曝光設備在不影響生產效率的前提量測晶圓的畸變與錯位；隨著3D架構在各領域半導體持續發展，自CMOS感測器逐步擴大到NAND快閃記憶體與邏輯晶片，未來DRAM也有望導入3D架構，對於這類可在曝光與晶圓鍵合製程前預先量測提高精度及品質的設備需求也越來越高，同時Litho Booster 1000也利用一部分由日本NEDO委託計畫的成果。
較上一代提升性能與改善生產效率
Litho Booster 1000重新設計晶圓托盤結構，可降低晶圓吸附過程產生的偏差，使量測精度提高35%，有助於偵測在多層曝光製程與晶圓鍵合過程容易出現的晶圓變形與位移，進而使良率提高；此外藉由增強測量機構光源，可更輕鬆檢測對準標記與重疊標記，使其適應不同的製程條件；同時透過提升晶圓傳輸自動化的速度，提高10%吞吐量，並可傳送翹曲度更大的晶圓，解決曝光與鍵合過程因應力不均而容易發生的晶圓翹曲問題，並使晶圓表面在進行多點側亮時提高生產率。
