史上第一個在家製作的 RAM
這段時間記憶體價格高漲,讓消費者只能含淚下手,或是等待遙遙無期的降價。在這個背景下,YouTube 頻道「Dr.Semiconductor」發佈了一部影片,記錄了他們嘗試在家中打造記憶體生產環境。將自家後院的棚屋改建為簡易無塵室,並自行搭建半導體製造設備,而非仰賴新建工廠的落成。這款 DIY 記憶體與現代動輒數十億個單元的商業晶片有極大差距。創作者設計了一個由電晶體與電容器組成的 5x4 矩陣。在製程中,他將設計圖案轉移到矽晶圓上,並進行光阻塗佈、曝光、蝕刻以及摻雜(Doping)等專業工法。只是此電晶體的特性並不理想,在高電壓下電流會持續增大,這是一個問題。因為源極和汲極之間的距離很短(小於
6 個月前
Intel陳立武重申將持續發展GPU設計的承諾,挖角高通Adreno設計師也是策略布局的一部分
Intel以Xe架構跨足GPU領域,不過截至目前為止除了整合式GPU外的GPU領域發展不算順遂,也多次傳聞Intel可能退出GPU業務;不過Intel執行長陳立武在參加Cisco AI高峰會受訪時透露,Intel不會退出GPU業務,而且先前挖角高通Adreno資深工程副總裁Eric Damers擔任首席GPU架構師也是策略的一環。與NVIDIA合作再度引發退出GPU業務的質疑由於Intel日前宣布加入NVIDIA NVLink Fusion聯盟,使Intel的Xeon x86 CPU可透過NVLink技術與NVIDIA資料中心GPU高速互連,還宣布將攜手NVIDIA利用NVLink-C2C打造
8 個月前
爆料指稱三星將會在歐版Galaxy S26系列使用Exynos 2600,主要原因是採購高通晶片成本越來越高
三星雖然一直有著如蘋果在旗艦機型使用自研處理器的想法,不過隨著三星半導體在先進製程遲遲沒有實質的突破表現,三星不得不與使用台積電製程的高通低頭,已經接連好幾代在旗艦產品使用高通的Snnapdragon 8系列處理器;根據爆料指稱,三星有意在2026年旗艦機Galaxy S26系列部分使用自研的Exynos 2600處理器,然而主要的原因並非Exynos 2600終於能與預計在2025年9月下旬公布的Snapdragon 8 Elite Gen 2一戰,而是為了降低不斷高漲的晶片採購成本。 Latest industry note related to Samsung: Exynos 2600
1 年前
Intel執行長公開信表示Pnather Lake、Nova Lake等平台將照計畫在2025年、2026年推出
Intel新任執行長陳立武就任後積極公布各項策略,其中在一封公開聲明重點摘錄Intel的重要產品與製程規劃,提到Intel 18A製程將如期在2025年內量產,Panther Lake將作為18A製程首款產品於2025年下半年推出,而2026年將依照原定計畫推出Nova Lake平台。 ▲Intel強調在取消20A計畫並專注於18A後取得重大突破,後續產品與製程發展順遂 雖然Intel曾傳出18A製程較原定預期稍微落後,不過Intel先前強調18A製程原本就是預定在2025年下半年推出,並無所謂延後的說法;陳立武在公開聲明表示看好18A製程,確認2025年底前大規模量產的計畫,並預期有代工客戶
1 年前
CES 2025:Intel強調採18A製程的Panther Lake將在2025年Q3量產,將延續Lunar Lake特性但不包括嵌入式記憶體
Intel在CES 2025的主題演講尾聲,由暫代聯合執行長Michelle Johnston Holthaus自口袋拿出代號Panther Lake的下一代行動平台處理器,預告在2025年第3季量產,並強調將使用Intel 18A製程,試圖穩定軍心強調Intel的製程與研發仍依據藍圖持續推進。 ▲Panther Lake將在2025年第三季問世,採用18A製程 ▲Panther Lake平台已經不再看靠Lunar Lake的嵌合記憶體設計 Michelle Johnston Holthaus提到Panther Lake將延續Lunar Lake受歡迎的美好元素,不過從她手中的晶片可確認Pan
1 年前
Intel晶圓代工宣布未來節點互聯微縮技術突破,新材料、先進封裝提升電晶體容量與晶片對晶片速度
Intel晶圓代工於2024年IEEE國際電子元件會議(IEDM)宣布多項突破性進展,其中透過使用新材料減材釕使電晶體容量得以提升25%,並透過先進封裝的異質整合方式使晶片對晶片的吞吐量提高100%,此外為了進一步推動GAA(環繞式閘極)微縮,Intel晶圓代工同步展示矽RibbonFET CMOS及微縮2D FET閘極氧化物模組成果。 Intel晶圓代工希冀藉展示這些技術進一步實現半導體產業於2030年在單晶片容納1兆電晶體的願景。Intel強調半導體需透過新材料提升如PowerVia晶片背部供電解決方案的效益,並緩解互聯密度與持續微縮的壓力,Intel晶圓代工已設立多項途徑解決銅電晶體與未
1 年前
鴻海集團宣布將於高雄建構機於NVIDIA GB200 NVL72機架的AI超級電腦,預計超過90exaflips為台灣最強AI HPC
與NVIDIA關係密切的鴻海集團於2024年10月8日的鴻海科技日宣布將於高雄建構台灣最高性能的AI超級電腦,此專案為鴻海高雄超級運算中心,基於NVIDIA的Blackwell架構,預計基於NVIDIA GB200 NVL 72為基礎,由共64個機架、達4,608個GPU構成,預估AI算力超過90exaflops;鴻海高雄超級運算中心已經開始動工,第一階段預計於2025年中期運作、目標於2026年完成。 鴻海高雄超級運算中心為NVIDIA所支援的全球先進超級運算設施網路的一員,將結合NVIDIA Omniverse與Isaac機器人平台,結合AI與數位孿生協助改造製程,並活用於AI研究、醫療保
2 年前
Intel於IEDM展示結合PowerVia背面供電與直接背部接觸的3D堆疊CMOS,將應用於未來製程節點
Intel於2023年IEEE國際電子元件會議(IEDM)由研究人員展示結合直接背部接觸與晶片背面供電(PowerVIA)的3D堆疊CMOS的進展,並分享PowerVia技術的研發突破,同時也是市場首次於12吋晶圓(300mm)而非透過封裝方式展示整合矽電晶體與氮化鉀(GaN)電晶體的大規模IC;Intel展示的創新技術預計應用未來製程節點,希冀在融入多項先進技術,實現單一封裝達1兆個電晶體的願景。 Intel近期公布的製程藍圖強調Intel持續於微縮技術創新,包括PowerVia晶片背部供電、用於先進封裝的玻璃基板與Foveros Direct封裝等,這些技術將陸續於2030年投產;在IED
2 年前
Intel PowerVia 晶圓背部供電將為 2024 年 20A 製程一環,實現超過 90% 單元利用率
Intel 將在 6 月 11 日起於日本京都的 VLSI 大會展示 PowerVia 晶圓背面供電技術,並進一步透過兩篇論文介紹 PowerVia ,也是目前第一家實作晶圓背部供電的公司;借助將電源迴路轉移至京元背面解決訊號相互干擾問題,成為提升晶片互連的關鍵新技術, PowerVia 更使得單元利用率超過 90% ,進一步提升效能與效率; Intel 預計於 2024 年的 Intel 20A 製程後導入 PowerVia ,並與 RibbonFET 環繞式閘極技術同時成為 20A 製程以及下一代 18A 製程的一部分。 PowerVia 的概念是打破現行晶圓將包括供電、訊號的佈線全部位於
3 年前
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沒有中國用語的一年(2024第21週):哏圖寫著「呀勒呀勒」,但「勒」應該唸「ㄌㄟ」嗎?
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